“对准”查询结果_在线百科全书查询
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图书信息内容简介图书目录图书信息书名:当摄像机对准你作 者：任远出版社：中国广播电视出版社出版时间：2010-1-1ISBN:9787504360342开本：16开定价:48.00元内容简介本书最显著的特点是更多的从传播学角度切入论述，全书把整体分成两个部分，上篇是为专业主持人而且，下篇是为经常上镜头的公务人员、企业家、专家而写。书中论述的公关知识和技巧，对日常的公共关系实务也有借鉴作用。图书目录 详情>>
在芯片制造过程中，光学光刻是一个非常重要的组成部分。光刻的主要目的是，利用光在半导体硅片上刻出所需要的图形。光学光刻可以分成两部分。曝光工具在圆片表面产生掩模图形，它的设计和工作是光学系统设计的主要问题。另一半是化学过程，一旦辐照的图形被光刻胶吸收和图形被显影时，化学过程就发生了。通过掩模上分离线条的光线形成照射圆片表面的辐照图形，它也成为掩模的实像。所讨论的工具都是光学工具。它们应用可见光，紫外 详情>>
对准误差率监视器（AlignmentErrorRateMonitor）是SS7MTP2功能，其能提供链接误差的检测。 详情>>
激光对准仪是运用激光束来测量非常微弱的断层移动的一种仪器。通过测定激光束到达反射器并反射回来所需要的时间的变化，地质学家可以精确地计算出发生器到反射器之间距离的变化情况。 详情>>
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1.定义：利用芯片上的对准键，一般用十字键和光罩上的对准键合对为之。2.目的：在IC的制造过程中，必须经过6~10次左右的对准、曝光来定义电路图案，对准就是要将层层图案精确地定义显像在芯片上面。3.方法：A.人眼对准B.用光、电组合代替人眼，即机械式对准。 详情>>
词目拼音基本解释词目对准拼音duìzhǔn基本解释1.[aimat]∶瞄准把一架摄影机对准那个景物2.[aligment]∶准线轴对准 详情>>
自对准技术（Self-alignedtechnology）：这是制作MOS大规模集成电路的一种重要工艺技术。采用该技术即可减小其中MOSFET的寄生电容，大大提高工作频率和速度。（1）问题的提出：对于增强型MOSFET，如果栅电极与源/漏区域之间存在有间隙的话，则器件工作时沟道就不能导通，因此在早期的铝栅电极MOSFET结构中，考虑到工艺对准的误差，往往在栅电极与源/漏区域之间设置了一定的重叠覆盖 详情>>
一种立体几何对准技术，其特征是：观测器O、P与工具ABCDEF三者相互固定组成一个整体，在这个整体追踪点目标T时，观测器O、P对称地扫描射线AB，当点目标T位于射线AB上时，由观测器O、P共同确认目标已被工具ABCDEF对准． 详情>>
自对准技术self-alignmenttechnique微电子技术中利用元件、器件结构特点实现光复印自动对准的技术。早期的MOS集成电路采用的是铝栅工艺,首先在硅单晶片上热氧化生长一层二氧化硅膜,经第一次光刻,在二氧化硅膜上刻蚀出源和漏扩散窗口,用扩散法形成源和漏扩散区(图1aMOS集成电路铝栅工艺)，接着在硅片上形成新的二氧化硅层；再经过第二次光刻，刻蚀出栅区，生长栅氧化层；然后，经光刻刻出引线 详情>>
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图书信息内容简介图书目录图书信息书名:当摄像机对准你作 者：任远出版社：中国广播电视出版社出版时间：2010-1-1ISBN:9787504360342开本：16开定价:48.00元内容简介本书最显著的特点是更多的从传播学角度切入论述，全书把整体分成两个部分，上篇是为专业主持人而且，下篇是为经常上镜头的公务人员、企业家、专家而写。书中论述的公关知识和技巧，对日常的公共关系实务也有借鉴作用。图书目录 详情>>
在芯片制造过程中，光学光刻是一个非常重要的组成部分。光刻的主要目的是，利用光在半导体硅片上刻出所需要的图形。光学光刻可以分成两部分。曝光工具在圆片表面产生掩模图形，它的设计和工作是光学系统设计的主要问题。另一半是化学过程，一旦辐照的图形被光刻胶吸收和图形被显影时，化学过程就发生了。通过掩模上分离线条的光线形成照射圆片表面的辐照图形，它也成为掩模的实像。所讨论的工具都是光学工具。它们应用可见光，紫外 详情>>
对准误差率监视器（AlignmentErrorRateMonitor）是SS7MTP2功能，其能提供链接误差的检测。 详情>>
激光对准仪是运用激光束来测量非常微弱的断层移动的一种仪器。通过测定激光束到达反射器并反射回来所需要的时间的变化，地质学家可以精确地计算出发生器到反射器之间距离的变化情况。 详情>>
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1.定义：利用芯片上的对准键，一般用十字键和光罩上的对准键合对为之。2.目的：在IC的制造过程中，必须经过6~10次左右的对准、曝光来定义电路图案，对准就是要将层层图案精确地定义显像在芯片上面。3.方法：A.人眼对准B.用光、电组合代替人眼，即机械式对准。 详情>>
词目拼音基本解释词目对准拼音duìzhǔn基本解释1.[aimat]∶瞄准把一架摄影机对准那个景物2.[aligment]∶准线轴对准 详情>>
自对准技术（Self-alignedtechnology）：这是制作MOS大规模集成电路的一种重要工艺技术。采用该技术即可减小其中MOSFET的寄生电容，大大提高工作频率和速度。（1）问题的提出：对于增强型MOSFET，如果栅电极与源/漏区域之间存在有间隙的话，则器件工作时沟道就不能导通，因此在早期的铝栅电极MOSFET结构中，考虑到工艺对准的误差，往往在栅电极与源/漏区域之间设置了一定的重叠覆盖 详情>>
一种立体几何对准技术，其特征是：观测器O、P与工具ABCDEF三者相互固定组成一个整体，在这个整体追踪点目标T时，观测器O、P对称地扫描射线AB，当点目标T位于射线AB上时，由观测器O、P共同确认目标已被工具ABCDEF对准． 详情>>
自对准技术self-alignmenttechnique微电子技术中利用元件、器件结构特点实现光复印自动对准的技术。早期的MOS集成电路采用的是铝栅工艺,首先在硅单晶片上热氧化生长一层二氧化硅膜,经第一次光刻,在二氧化硅膜上刻蚀出源和漏扩散窗口,用扩散法形成源和漏扩散区(图1aMOS集成电路铝栅工艺)，接着在硅片上形成新的二氧化硅层；再经过第二次光刻，刻蚀出栅区，生长栅氧化层；然后，经光刻刻出引线 详情>>
