光敏印油_在线百科全书查询

光敏印油

概述(使用次数少时使用量大时其他方法)

光敏印油的原理

光敏印油优缺点(优点缺点)

概述

光敏印油是指光敏印章专用印油，具有印油不易沉降，颜色鲜艳，色密度高的特点；印鉴清晰均匀，不洇纸，渗透速度快，即印即干，耐高温、耐低温，稳定性强，与印垫和印章壳不发生不良反应，并可重复注油的特点。

使用方法

综述

自己的印章是不是光敏印章。以免加错印油。一旦加错印油这种章就会作废了。

加油：把印油挤在章面上，让它自己往下渗透就可以了。还有一种光敏印。外壳表面有个小孔。这种就比较方便了。直接挤在小孔里就可以了。

使用次数少时

在使用前加一点油即可。方法：取下章盖，让字面朝上，用少量光敏印油涂抹印章边框、字体和图片，待油慢慢透入后，根据情况再适量涂抹几次。然后用干净的软布或纸巾擦去多余的油，则立即可以使用。

使用量大时

从印章的柄下部加油口进行加油，方法：印章正放于桌面，用手拉开柄下部的注油口拉盖，拿一小瓶印油（如果是大瓶，最好用注射器一类），瓶口尖端对准注油口，一滴滴将印油加入，如果遇到注油口太小印章不能顺利加入，可以稍微震动一下印章，让油自然流入。　光敏印章内一般都有储油的海绵质体，它会将多余的油暂时吸收，以后再慢慢向下渗透到光敏垫。

其他方法

取下光敏垫，放入印油中，字面朝上，印油不要超过光敏垫的厚度，让光敏垫慢慢吸收印油。如果印章有海绵质体，可以放一些油在里面。等光敏垫完全充满印油后，取出放入印章壳。

光致抗蚀剂用于光加工工艺的光敏高分子，通称光致抗蚀剂（又称光刻胶），大量用于印刷制版和电子工业的光刻技术中。它的工作原理是受光部分发生交联，生成难溶性的硬化膜，经加工成负像（负性胶）；或者是原来的不溶性胶受光照后变为可溶性的，经加工得正像（正性胶）。通常用的光致抗蚀剂有：①聚肉桂酸酯型，例如聚乙烯醇肉桂酸酯，由聚乙烯醇和肉桂酰氯在吡啶溶剂中合成，配制的光刻胶称KPR。在紫外线作用下,肉桂酸酯的双键发生光化学二聚反应，形成交联，转变为不溶性物质。KPR是最早用于光刻的一种光致抗蚀剂,通常加入5－硝基苊等作为光敏剂。②丙烯酰基型,其线型聚合物不能得到优良的图像，所以实用体系都由预聚体和单体组成，同时进行聚合和交联。通常交联单体和预聚体是一元或多元的丙烯酸酯、丙烯酰胺和丙烯酸氨基甲酸酯类。例如，由这类单体交联剂制成的聚酯和尼龙感光树脂版，已能用来代替铜、锌凸版。③叠氮型，叠氮化物光解，生成活泼的一价氮化物,很容易偶合或与碳-氢键、双键反应。用于光敏树脂的叠氮化物均为稳定的芳族化合物。双叠氮化合物是一种光交联剂(如下式所示)，能引起许多高聚物交联。例如叠氮-环化橡胶就是一种常用的光致抗蚀剂。④重氮盐类和邻偶氮醌型光敏高分子，也是常见的光致抗蚀剂。光固化涂层和油墨光敏高分子的另一重要类型。由于它具有不用溶剂，不产生污染，以及固化速率快等优点，近年来发展很快。它们的主要组成：①树脂或预聚体；②交联单体(一般为双或多官能团的丙烯酸酯类)；③光引发剂；④颜料或染料。目前以丙烯酸酯型和不饱和聚酯型为主；尤以前者重要。此外，硫醇－烯类光聚合和阳离子开环光聚合体系也是近年来引人注意的体系。其他功能性的光敏高分子可根据不同的用途，通过引入相应功能的光敏官能团而制得。例如利用吲哚啉苯并螺吡喃发生可逆的光异构化反应，可以制备光致变色功能高分子。又如咔唑，在光作用下易和电子受体发生电子转移，可用作高分子光导电材料。再如四溴四碘荧光素，在光作用下通过能量转移能使氧转变为单线态氧，可用作高分子型光氧化催化剂等。